近日，貴金屬集團稀貴金屬綜合利用新技術(shù)國家重點實驗室靶材研發(fā)團隊在貴金屬靶材應(yīng)用基礎(chǔ)研究領(lǐng)域取得了重要進展。其項目研究為深入理解磁控濺射過程中鎳鉑靶材表面結(jié)瘤的形成機制提供了全新的視角，為解決濺射鍍膜中的關(guān)鍵技術(shù)難題提供了理論依據(jù)。

據(jù)了解，磁控濺射過程中鎳鉑靶材表面結(jié)瘤影響著鍍膜質(zhì)量和靶材壽命，長期以來，一直是磁控濺射領(lǐng)域亟待解決的技術(shù)瓶頸。靶材團隊經(jīng)過2年多的深入研究，發(fā)現(xiàn)靶材表面的缺陷區(qū)域是導(dǎo)致結(jié)瘤形成的關(guān)鍵因素。

本項目研究得到了國家重點研發(fā)計劃、云嶺興滇英才計劃和云南貴金屬實驗室項目等的支持，研究成果“Mechanisms of Nodule Formation on Ni-Pt Targets During Sputtering”被Elsevier出版的國際知名期刊Applied Surface Science（影響因子IF6.3，中科院二區(qū)TOP期刊）正式接收發(fā)表。成果的取得為優(yōu)化鎳鉑靶材質(zhì)量提供了重要的理論基礎(chǔ)，為提高靶材成品率提供了關(guān)鍵支撐，解決行業(yè)共性難題，進一步鞏固了貴金屬集團在貴金屬靶材學(xué)術(shù)及產(chǎn)品研發(fā)領(lǐng)域的國內(nèi)領(lǐng)先地位。